Toshiba annonce la construction d'une usine pour du wafer 300 mm pour doubler sa capacité de production |
————— 05 Février 2022 à 11h12 —— 17615 vues
Toshiba annonce la construction d'une usine pour du wafer 300 mm pour doubler sa capacité de production |
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Oui, Toshiba existe toujours, KIOXIA n'est rien de plus que l'ancienne filiale Toshiba Memory Corporation du groupe japonais. Elle est désormais indépendante en apparence, mais toujours fortement sous le giron de Toshiba. Le géant japonais concentre toujours un bon nombre d'activités directement sous son drapeau comme la fabrication de disques durs et surtout la production de petits semiconducteurs, notamment des composants pour la gestion et la réduction de la consommation électrique de toutes sortes d'équipements électroniques. D'ailleurs, ça n'aura échappé à personne la demande en la matière est particulièrement forte ces derniers temps, particulièrement du côté des l'électrification du parc automobile et de l'équipement industriel, deux secteurs actuellement très gloutons en transistors tels que les MOSFET et les IGBT (insulated-gate bipolar transistors ou transistor bipolaire à grille isolée), entre autres !
C'est dans ce contexte que le japonais a décidé de construire une nouvelle usine dédiée au wafer 300 mm, afin de mieux accompagner la croissance d'un marché qui pourrait atteindre les 62 milliards de dollars en 2025, le japonais anticipant le fait que la capacité déjà maximisée de son usine de wafer 200 mm ne sera plus suffisante d'ici là. Le projet annoncé s'élève à hauteur de 873 millions de dollars « seulement » (eh oui, c'est tout de suite moins cher quand il ne s'agit pas de produire avec les derniers procédés de gravure) et la construction est prévue pour démarrer au printemps 2023, avec l'espoir de compléter la première phase au printemps 2024 et de lancer la production la même année. Avec ceci, Toshiba estime qu'il pourra multiplier par 2,5 sa capacité de production de semiconducteur par rapport à 2021 !
La nouvelle usine sera construite dans la préfecture d'Ishikawa, là où se trouve déjà le fab Kaga Toshiba érigé en 2006 (et se trouvant désormais sous le pavillon KIOXIA). L'installation sera équipée du nécessaire pour protéger contre les tremblements de terre, de deux lignes à haute tension et d'équipements économes en énergie, le tout infusé d'IA et de systèmes automatisés pour une efficacité accrue. Enfin, Toshiba espère bien rendre l'usine 100 % dépendante d'énergies renouvelables.
Le japonais prévoit aussi une deuxième phase au projet de construction, afin d’optimiser son investissement face aux évolutions de la demande. Ainsi, la phase 2 sera réalisée uniquement si le besoin se fait ressentir à l'avenir. Une prudence mesurée et parfaitement louable (et qui fait assez écho à celle de TSMC), d'autant plus que certains commencent à présent à avancer le risque bien réel d'un crash du semiconducteur, suivant la période faste que nous traversons encore actuellement et où la pénurie se fait toujours ressentir dans de nombreux domaines d'activité, mais c'est une situation qui pourrait éventuellement arriver à terme et se régulariser. Pour l'anecdote, n'oublions pas que le Japon essaye à présent aussi de renforcer son rôle dans l'industrie du semiconducteur, après avoir beaucoup perdu de sa superbe. C'est dans cadre que TSMC et Sony vont collaborer pour une usine de 7 milliards de $ au Japon. (Source)
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