Bientôt des scanners DUV Made in China pour du 28 nm !

Que faire quand les routes d’approvisionnement se bloquent l'une après l'autre, ou simplement pour prévenir que cela puisse un jour se produire ? Eh bien, on cherche à produire un maximum chez soi ! C'est une politique d'indépendance et d'autosuffisance que la Chine poursuit déjà depuis plusieurs années, mais ce n'est que très récemment que l'épine a vraiment commencé à se faire sentir dans les pieds de l'autre grande puissance que sont les USA, surtout maintenant que les choses se concrétisent et que la stratégie chinoise commence à porter ses fruits.

Comme beaucoup d'autres, c'est dans le cadre de développement de son industrie du semiconducteur qu'avait été fondée l'entreprise SMEE en 2002 (il y a presque 20 ans ! Bim, coup de vieux !), ou Shanghai Micro Electronic Equipment, et dont l'activité principale fut dès le départ la création d'outils de production de semiconducteurs. Évidemment, ce démarrage assez « récent » implique un retard technologique assez énorme avec les outils de chez ASML (le numéro 1 de ce secteur) qu'utilisent des compagnies comme Intel et TSMC. En effet, les scanners les plus avancés de SMEE aujourd'hui proviennent de sa série 600, ils peuvent être utilisés pour fabriquer en 280 nm, 110 nm et 90 nm avec une lithographie DUV en immersion utilisant un laser ArF de 193 nm — des outils que les fondeurs majeurs de la planète avaient commencé à exploiter dès 2004 !

 Désormais, 10 ans après TSMC, la prochaine étape de SMEE sera celle du 28 nm avec sa deuxième génération de scanner DUV. Celle-ci serait bien partie pour être prête comme prévu d'ici le 4e trimestre de 2021 — ce qui coïnciderait d'ailleurs avec la rumeur autour des usines de Huawei. Naturellement, ces scanners pourraient également être utilisés pour produire en 40 nm, 55 nm ou 65 nm, des procédés toujours très populaires, même chez des géants comme TSMC. Pas de quoi déjà remettre en question la domination taïwanaise et américaine dans ce secteur, mais ce sera toujours un nouveau grand pas en avant !

Du fait de son expérience, SMEE devrait être en mesure de produire bon nombre de scanners pour équiper une usine avancée, bien qu'il faille aussi considérer le fait que les futurs clients vont potentiellement devoir adapter leurs designs utilisant les solutions 28 nm d'ASML, ce qui prendrait également son temps et signifie qu'une adoption des  engins de SMEE par l'industrie locale ne risque pas de se faire du jour au lendemain. L'autre détail important dans tout cas, c'est que ce que fabrique SMEE ne repose sur aucune technologie ou d'appareils d'origine américaine, un point crucial pour contourner les sanctions américaines se multipliant.

Néanmoins, afin de pouvoir boucler la boucle, la Chine devra également se pencher sur les outils EDA, les outils d'automatisation de la conception électronique, indispensables à la production des puces modernes. À ce jour, tous sont d'origines américaines et de compagnies comme Cadence, Mentor Graphics ou Synopsys... Vite, des sanctions ! Bref, il reste beaucoup de chemin à parcourir.