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Hard du Hard • La Course aux Nanomètres - Partie 1
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Les briques

Mais le Procédé, ce n'est que le début. L'objectif c'est de faire des puces. Donc on va vouloir faire des transistors, puis les relier entre eux par des lignes de cuivre. Les transistors vont être la partie front-end de la puce, les interconnexions métalliques de la partie back-end. On va partir du bas et construire l'empilement vers le haut en enchaînant les procédés.

Par exemple, pour produire une puce CMOS, on va commencer par vouloir doper le silicium, c'est-à-dire lui injecter des atomes qui modifieront les propriétés électriques du silicium uniquement à certains endroits — on verra pourquoi et comment plus tard.

On va d'abord couvrir de résine de photolithographie les zones que l'on veut maintenir non-dopées. Puis on va implanter des dopants, des atomes de bore, d'arsenic ou de phosphore. Puis on va retirer la résine dans une étape de stripping. On viendra finalement — après le retrait de la résine qui sinon brûlerait — recuire le wafer quelques secondes à température supérieure à 1000 °C pour activer les dopants, c'est-à-dire les faire rejoindre leurs sites atomiques dans le cristal de silicium. On va appeler cette séquence de procédés une Brique, ou B.

implantation

Après cela on séparera les différents composants de la puce par de grosses tranchées ou des petites tranchées, en fonction de ce qu'on veut isoler électriquement. Pour faire ces tranchées, on va d'abord couvrir de résine de photolithographie les zones que l'on ne veut pas creuser, on va graver le silicium, retirer ce qu’il restera de résine de photolithographie puis on déposera de l'isolant, en une ou deux fois. Et on enlèvera le surplus de dépôt par un polissage mécano-chimique. Ces briques DTI (Deep Trench Insulation) et STI (Shallow Trench Insulation) qui auraient du être à priori "simples", vont donc se décomposer en 7 P différents, avec plusieurs S chacun.

brique sti dti

Ces deux exemples de Briques sont les « fondations » du transistor, qui existent dans toutes les puces de logique CMOS sur le marché. Si les Procédés étaient des étapes conceptuelles de travail sur des couches minces, la Brique sera donc en général la fabrication d’un élément identifiable de transistor — ici, les trench insulations et la zone active — à partir d’une somme de procédés. Plus haut dans la puce, quand on va vouloir relier plusieurs transistors entre eux, on parlera d’une brique « Lignes » pour faire… Un des niveaux de fils de cuivre entouré d’isolants.

interco cuivre [cliquer pour agrandir]Photo des premières interconnexions en cuivre d’IBM (sans l’isolant autour) en 1997. Chaque niveau est une brique.

Et puisque nous travaillons dans des intégrations de très, très, trèèèèèès nombreux transistors, si l’on produit un élément de transistor comme un DTI ou une zone active, on peut en produire des milliards sur un seul wafer ! Il suffit que le masque de photolithographie ait ces milliards d'éléments.

fabrication paralleleLà il n’y a que quelques dizaines de transistors, mais au moins vous n’avez pas besoin de microscope électronique pour les voir.

Vers la route technologique

Pour faire un transistor, il va falloir de nombreuses briques qu'on verra ensemble au prochain article, mais une brique peut aussi correspondre à d'autres composants. Par exemple, TSMC a mis dans certaines de ses technologies CMOS une possibilité d’intégrer de la mémoire RAM non-volatile magnétique. Cette cellule MRAM est une brique ajoutée à l'enchaînement "classique" de la fabrication des puces. Cet ajout va permettre aux concepteurs de circuit d’avoir les fameuses cellules de MRAM disponibles dans leurs designs, et quelques étapes en plus en fabrication pour le fondeur.

Au prochain article, nous verrons comment ces Briques s'enchaînent pour fabriquer les transistors, leurs interconnexions et enfin les puces elles-mêmes. Cela nous permettra de clarifier ce qu’est une route technologique.

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La Course aux Nanomètres

1ème partie /5Briques Technologiques, Kezako ?
2ème partie /5 — Sur l'autoroute du CMOS
3ème partie /5 — Noeuds Technologiques à l'ère du Planar
→ 4ème partie /5 — Le Paradoxe du FinFET
→ 5ème partie /5 —


Un poil avant ?

En cabine • Corsair HS80 Max Wireless

Un peu plus tard ...

Test • NZXT H6 Flow RGB

Les 7 ragots
Les ragots sont actuellement
ouverts à tous, c'est open bar !
par Baptiste B., le Mercredi 15 Novembre 2023 à 21h53  
par Jemporte, le Samedi 04 Novembre 2023 à 22h16
Ca démontre aussi l'avantage que procure une nouvelle gravure qui met littéralement la précédente au rencard, déployée pour des éléments plus secondaires. Parce que du 5,6,7nm reste dispo chez TSMC.
J'expliquerai pourquoi un peu plus tard mais c'est plus exactement vrai. T'as un gros ventre mou autour du 10nm, mais aujourd'hui il y a deux états de l'art, le 28 (fiabilité ) et le 5 et bientôt 3 (performance).
par linkin623, le Dimanche 05 Novembre 2023 à 09h56  
Merci pour cette intro !

Comme d'hab jemporte s'emporte
par Jemporte, le Samedi 04 Novembre 2023 à 22h16  
Dans cette course les investissements nécessaires sont des plus en plus délirants. Pour rappel ST Micro, le co-champion national avec l'Italie et la Suisse, a dû partager l'investissement de sa future usine 18nm DUV (très loin de 3nm EUV donc qui possèdera une densité globalement plus de 30 fois supérieure) avec Glofo et l'état français est venu a son secours avec une aide complémentaires européenne.
Du coup tout le monde, même les plus gros clients des graveurs n'ont plus les moyens pour faire partie des dernières technos.
Par exemple on se demandait pourquoi AMD abandonnait son haut de gamme GPU sur le RDNA4. Très simple : ils ont une part de la production TSMC 3 à 5 nm réservée et pas un mm² de silicium de plus et doivent choisir à quoi la laisser. Ils ont trouvé que les GPGPU des serveurs IA notamment à savoir par exemple les MI300 leur rapportaient plus (au mm² silicium dépensé ) que les GPU vidéo gaming et pro. Du coup ils ont zappé le HDG RDNA4 qui consommait le plus de surface et optimisent désormais leurs cores CPU en Zen 4c (même perfs que Zen 4 mais 1.5 de surface de moins). RDNA 4 plus compacts et exit le HDG.
Ca démontre aussi l'avantage que procure une nouvelle gravure qui met littéralement la précédente au rencard, déployée pour des éléments plus secondaires. Parce que du 5,6,7nm reste dispo chez TSMC.
par Un ragoteur bio de Bretagne, le Vendredi 03 Novembre 2023 à 10h56  
par Baptiste B., le Jeudi 02 Novembre 2023 à 19h23
ça ferait un sacré paquets de lutins et de tout petits burins.
Pratchett nous aurait donc menti ?
par davistos83, le Vendredi 03 Novembre 2023 à 04h05  
Merci, sujet très intéressant, a relire quand les autres épisodes sortiront.
par Baptiste B., le Jeudi 02 Novembre 2023 à 19h23  
par Un ragoteur bio du Grand Est, le Jeudi 02 Novembre 2023 à 17h34
Je suis choqué!

Je croyais vraiment que des armées de petits lutins orfèvres burinaient en choeur le dioxyde de silicium cristallin pour former les transistors...
ça ferait un sacré paquets de lutins et de tout petits burins.
par Un ragoteur bio du Grand Est, le Jeudi 02 Novembre 2023 à 17h34  
Je suis choqué!

Je croyais vraiment que des armées de petits lutins orfèvres burinaient en choeur le dioxyde de silicium cristallin pour former les transistors...