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asml bilan 2020 vs 2021

ASML, son passé proche, son présent, son avenir !
asml bilan 2020 vs 2021

Voilà, ASML aussi a bouclé son exercice comptable de 2021 et a donc pu partager ses derniers résultats. Parmi les chiffres phares, nous avons 18,6 milliards d'euros de ventes en 2021 et un bénéfice net de 6 milliards d'euros ! L'année 2021 aura terminé en beauté avec 5 milliards de chiffre d'affaires et un bénéfice net de 1,7 milliard d'euros. Et avec tout ça, le carnet de commandes de l'entreprise est absolument plein à craquer, l'avenir semble clairement assuré et c'est bien pourquoi le constructeur va plus que jamais se concentrer à préparer celui-ci au mieux !

Mais d'abord, voici une jolie présentation résumant toutes les données intéressantes à connaître du commerce de l'entreprise, le tout comparé à l'exercice de l'année précédente. L'EUV est indéniablement au coeur du travail d'ASML, une activité qui a généré 41 % de ventes en plus, pour un total de 6,3 milliards d'euros environ. 42 systèmes ont été livrés et installés en 2021. La machinerie DUV n'est toutefois pas en reste, cette activité-ci a enregistré une croissance de 25 % et se trouve encore légèrement en tête des ventes avec 7 milliards d'euros.

 

asml bilan 2020 vs 2021 [cliquer pour agrandir]

 

Au passage, ASML avait aussi de bonnes nouvelles concernant l'incendie dans son usine à Berlin, sujet que nous avions couvert. En fin de compte, le constructeur pense que celui-ci n'aura pas d'impact majeur sur sa production de scanners EUV et il s'attend d'ailleurs à une croissance de 20 % des ventes sur l'année 2022. Plus exactement, ASML espère construire et livrer 55 systèmes EUV cette année ! Notons que l'entreprise a maintenant aussi revu sa manière de compter. Ainsi, un scanner EUV livré ne sera pris en compte dans les résultats uniquement dès lors qu'il aura été qualifié et entamé la production de wafers chez le client.

 

Mais l'avenir ne sera pas que fait d'EUV « normal », mais aussi à l'EUV High-NA (High Numerical Aperture) - la prochaine "étape majeure" en lithographie, considérée comme essentielle pour le passage au 2 nm et au-delà (ou en-dessous, si vous préférez) ! Une nouvelle génération en cours d'élaboration et fortement soutenue par Intel depuis plusieurs années déjà - le fondeur avait acheté un premier système TWINSCAN EXE:5000 en 2018. Celui-ci n'était alors prévu que pour des essais, mais Intel a maintenant aussi passé commande pour les nouveaux TWINSCAN EXE:5200, une première dans le carnet d'ASML ! Le nouveau modèle ciblera cette fois-ci une production de 200 wafers par heure, donc potentiellement plus de 145 000 wafers par mois ! Les premiers systèmes devraient être livrés en 2024, avec l'espoir d'en démarrer l'opération de production en volume en 2025.

 

De toute évidence, cet achat s'insère dans la volonté d'Intel de combler son retard non négligeable sur la concurrence avec la lithographie EUV, dont Intel ne se sert toujours pas chez lui dans le cadre d'une production commerciale. L'objectif est donc maintenant de se bouger les fesses, pas pour se contenter de simplement revenir à niveau, mais bel et bien pour prendre les devants ! À voir si d'autres seront aussi intéressés par l'EUV High-NA d'ASML, nul doute que ce dernier en serait ravi. Un seul autre EXE:5000 a été commandé au trimestre dernier, mais l'identité de l'acheteur n'est pas connue. (Source)

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par Jemporte, le Mardi 25 Janvier 2022 à 00h12  
par Un ragoteur qui draille en Île-de-France, le Dimanche 23 Janvier 2022 à 13h27
Super intéressant l'article sur l'EUV High NA, même si j'ai pas tout compris.
Ça me parait bizarre quand même la décision de passer par des lentilles anamorphiques pour ne pas changer le grossissement standard de x4 à x8. Ils ont leurs raisons évidemment, mais ça introduit tellements de problèmes !
Tout ça pour rester sur un standard inadapté
Il me semble qu'en EUV on passe aux mirroirs.
par Un ragoteur qui draille en Île-de-France, le Dimanche 23 Janvier 2022 à 13h27  
Super intéressant l'article sur l'EUV High NA, même si j'ai pas tout compris.
Ça me parait bizarre quand même la décision de passer par des lentilles anamorphiques pour ne pas changer le grossissement standard de x4 à x8. Ils ont leurs raisons évidemment, mais ça introduit tellements de problèmes !
Tout ça pour rester sur un standard inadapté
par Arkane, le Jeudi 20 Janvier 2022 à 22h38  
par Pierre Yves D., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 09h44
[...]
Tiens, un nouveau nom en rouge !
Est-ce qu'on aura droit à une brève de présentation ?
par dfd, le Jeudi 20 Janvier 2022 à 22h31  
par _m_, le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h41
Et après l'EUV et l'EUV HNA, c'est quoi l'avenir?
Easy !
Lithographie aux rayons X mous, puis durs, puis pour terminer, aux rayons gammas...
J'y connais keud, hein ? Mais ça devrait être un truc comme ça...
par Nicolas D., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 15h21  
par _m_, le Jeudi 20 Janvier 2022 à 11h03
C'est apte jusqu'au sub-nanomètre, au moins?
D'ailleurs, à flashouille équivalent, c'est quoi qui fait descendre les nodes? Uniquement les maques?
Qu'est-ce que Samsung, Intel ou TSMC font intervenir d'autres, pour avoir des tambouilles si différentes, alors qu'ils utilisent tous les machines à bronzage?
La machine c'est une chose, ce que tu en fais est une autre. Tu peux faire des tas de trucs différents avec une vis par exemple ! Je suis pas dans les détails les plus techniques, mais tu as le nombre de passage à la machine qui compte (ici pour un exemple) et les opérations que tu fais. Ca n'est pas wafer -> machine -> puce, mais un truc plus complexe qui implique plusieurs machines et tu peux jouer sur l'ordre / ce que tu mets comme réglage. Rajoute qu'une puce c'est un mapping d'un ensemble de transistors sur une bibliothèque propre à la techno de gravue des schémas possibles (et efficaces). Tu peux améliorer la biblio en trouvant des design plus efficace sur ton process, ce qui peut changer en partie la densité (cd AMD et le V-Cache bien plus dense, meme si toujours en 7 nm).
par _m_, le Jeudi 20 Janvier 2022 à 11h03  
par Matthieu S., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h50
Pourquoi tu voudrais qu'il y ait déjà autre chose ? On se trimballe la lithographie DUV depuis très longtemps, elle a évidemment été améliorée au fil des années. Ça sera sûrement la même chose pour l'EUV, qui ne fait finalement encore que commencer sa carrière
Donc calme toi et enjoy le présent un peu
C'est apte jusqu'au sub-nanomètre, au moins?
D'ailleurs, à flashouille équivalent, c'est quoi qui fait descendre les nodes? Uniquement les masques?
Qu'est-ce que Samsung, Intel ou TSMC font intervenir d'autres, pour avoir des tambouilles si différentes, alors qu'ils utilisent tous les machines à bronzage?
par Matthieu S., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h55  
par Pierre Yves D., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h54
@Matthieu : tu peux décrire un peu plus l'EUV High-NA (High Numerical Aperture) stp ? Jamais entendu parlé...
lien
par Pierre Yves D., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h54  
@Matthieu : tu peux décrire un peu plus l'EUV High-NA (High Numerical Aperture) stp ? Jamais entendu parlé...
par Matthieu S., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h53  
par Pierre Yves D., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h51
bin oui, pour cette zone, c'est soit EU soit Israël... russie peut être ?
Au fait, t'as des messages (beaucoup)
par Pierre Yves D., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h51  
par Matthieu S., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h28
EMEA ça inclut aussi toute l'Afrique et tout le Moyen-Orient, donc on peut pas être sûr à 100 % que c'était bien d'une boite en Europe (même si ça parait assez probable)
bin oui, pour cette zone, c'est soit EU soit Israël... russie peut être ?
par Matthieu S., le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h50  
par _m_, le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h41
Et après l'EUV et l'EUV HNA, c'est quoi l'avenir?
Pourquoi tu voudrais qu'il y ait déjà autre chose ? On se trimballe la lithographie DUV depuis très longtemps, elle a évidemment été améliorée au fil des années. Ça sera sûrement la même chose pour l'EUV, qui ne fait finalement encore que commencer sa carrière
Donc calme toi et enjoy le présent un peu
par _m_, le Jeudi 20 Janvier 2022 à 10h41  
Et après l'EUV et l'EUV HNA, c'est quoi l'avenir?